半导体晶圆划片废水处理案例|半导体晶圆划片废水处理方法
建设项目的背景
该类目属于长四角各地某发达省级重点半导体材料工业绿化区,机构大部分生产的89寸大和129寸大晶圆,每日量做到2万片。跟着产量升降,原来的的生活污水清理控制系统已没法充分考虑健康规定要求,亟需更新升级整修。好项目总融资约1200万元,开发清理的能力为300吨/日,于2021时间内起建投产。
废液材质及源头
该企业主晶圆划区工步制造的焦化废水重点构成以上因素:
切割机工作中操作的研磨机液残留物物,具体组成为二阳极氧化硅粉末、从表面化学活化剂和设计使用剂
晶圆面拆洗行成的含氟污水,氟阴阳离子浓硫酸浓度在80-120mg/L
大量高价属阴离子如铜、镍等,因素于裁切手段损伤
设计高沸点溶剂使用量,主要包括异丙醇、二甲苯等
pH值起伏较多较多,通畅在4-10范围内
处里工艺技术标准流程
共性废水操作工序特征参数,定制运用"物理预操作+生物化学操作+高度操作"的搭档工序:
调结池
:均等化地表水蓄水量,放置pH线上数据监测和智能投加药剂装置
水泥混凝土滤渣
:加药系统PAC和PAM,清理飘浮物和固体化合物
气浮单元测试
:主要采用溶气气浮技艺进每一步清除很小颗粒肥料和部位生物碳物
什么是生化除理
:主要采用MBR膜生物体想法器,废水质量浓度长期保持在8000-10000mg/L
层次操作
:吸附性性炭吸附性+反渗入工艺设计,切实保障出液合格
厌氧颗粒污泥进行处理
:板框设备脱水器,工业废水水分含量率降落到60%下面的
治疗效果好
软件系统平衡电脑运行后,喷水水源充分超过《电子元器件工业化水严重污染源减排规范》(GB39731-2020)有点减排限制值标准:
COD<30mg/L
氟阴阳离子<5mg/L
透明桌面物<10mg/L
天价属各种指标图均远低于允许值
业务年可降低空气空气污染物排放物量约COD 32吨、氟化物8.5吨,回收水率高达75%之内,为公司节省成本煤气费付出约110万元/年。